技术编号:13818553
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学气相沉积工艺。更具体地,涉及一种气体混合装置和方法以及包括该气体混合装置的CVD设备。背景技术在例如CVD的以多种气体为原料沉积设备中,沉积的均匀性是基础要素,也是影响沉积膜层是否符合要求的最重要的因素之一。影响沉积的均匀性的因素有很多,譬如温度均匀性、气体均匀性、放电电场均匀性等等。其中影响气体均匀性除了扩散器的均匀性外,原料气体是否混合均匀,也影响沉积膜质的均匀性。通常在原料气体通入沉积腔体前,气体已开始混合,然后经由扩散器通入反应腔室。但是对于流量比较小的气体,要想在流量比例...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。