技术编号：14033254
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求于2015年7月13日提交的EP申请15176521.1和于2016年6月22日提交的EP申请16175702.6的优先权，其全部内容通过引用并入本文。技术领域本发明涉及表征多个衬底的形变的方法、用于衬底的对准方法、对准系统、光刻设备、套刻测量方法、计量系统和用于制造器件的方法。背景技术光刻设备是一种将期望的图案应用到衬底上、通常是到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，图案化装置，替代地被称为掩模或掩模版，可以被使用来生成要在IC的单独层上...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。