技术编号:14116940
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空设备技术领域,尤其涉及真空镀膜设备领域。背景技术目前,公知的真空镀膜机常用的转架形式有公转架旋转、基片承载轴自转和公转架旋转、基片承载轴不自转的两种结构形式,以上两种转架结构仅能满足规则外形的基片表面膜层沉积的厚度均匀或片状基片的单个面的膜层沉积的厚度均匀,如基片表面外形不规则,则需要在真空设备停机的情况下多次调整基片在基片承载轴上的装夹角度才能得到膜层沉积的厚度均匀的基片,效率低下。实用新型内容为了解决现有真空镀膜机转架形式存在的上述问题,本实用新型提供了一种基片承载轴摆动角...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。