技术编号：14191469
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种确定石英不同切向晶面的湿法刻蚀结构的技术，属于MEMS微机电系统制造技术领域。背景技术石英晶体由于优良的压电性，良好的力学性能以及高频谐振等特性，因此石英逐渐成为MEMS技术中一种常用的基础材料。用石英作为元件的衬底材料不会发生漏电的现象。利用石英的压电特性可以制作出一些特殊的传感器。湿法刻蚀是形成微结构的一种高效方法。相比较于硅，石英大部分晶面的刻蚀速度慢，不同晶面形成的刻蚀结构面不同，并且除了Z-cut晶面外，其他切向晶面在掩膜作用下湿法刻蚀中出现的结构面没有对称性，如AT-cu...
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