技术编号:14337504
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种大平面抛光装置,尤其是涉及一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置。背景技术超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,随着研究的深入以及检测技术的提高,人们对纳米级超光滑表面的形成机理有了更深刻的认识,并开发了许多抛光技术,如传统游离磨料抛光,主要指磨料游离散布在工件与柔性研具之间的工作界面内,通过工件和研具向磨料施加作用力,使磨料在工作界面内滚动和滑动,从工件上去除材料的加工方式,该方法在抛光过程中,磨料的浓度、分布均匀性、运动速度、运动轨迹及滞留时间等无法直接控...
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