技术编号:14560613
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及基板处理装置。背景技术以往以来,公知有一种立式热处理装置,在该立式热处理装置中,使用晶圆舟皿,对多个基板一并(成批)进行热处理,该晶圆舟皿以能够绕预定的旋转轴旋转的方式设置于处理容器内,该晶圆舟皿在上下方向具有预定间隔且大致水平地保持多个基板。作为晶圆舟皿,公知有如下构造:在例如上下相对配置的顶板与底板之间设置有多根支柱,在各支柱的内侧面以大致等间隔形成有多个槽部,晶圆的周缘部插入并支承于槽部(参照例如专利文献1)。另外,公知有如下构造:在例如上下相对配置的顶板与底板之间设置有多根支柱...
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