技术编号：14589087
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抛光技术领域，特别是涉及一种用于氧化锆陶瓷3D抛光的抛光液及其制备方法。背景技术氧化锆陶瓷材料具有硬度高、抗弯强度高、可加工性强、电学性能好和安全、无毒等优点，被广泛应用于3C电子、机械研磨、光通讯、医疗、航空等领域。尤其是随着手机、智能手表等3C电子产品的迅速普及，带动了氧化锆陶瓷加工技术的快速发展。化学机械抛光是氧化锆陶瓷实现表面精密加工的关键工艺，关于陶瓷抛光液的公开资料并不多。如CN 104694018A提供了一种用于二氧化锆陶瓷抛光的抛光粉的制备方法，该方法是将硝酸铈、氯化锡...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。