技术编号：14594738
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及精确控制掩模与基片间间隙的技术领域，具体涉及一种基于白光干涉信息匹配的多层膜绝对间隙测量装置及方法。背景技术在制作微纳结构时，光学光刻的曝光工艺是主要的加工方式，它直接决定了微纳结构的制作精度。由于传统光学系统无法传输倏逝波，因此其分辨力受限于衍射极限，只能达到半波长尺度。SP曝光工艺采用波长365nm的长波作为光源，实现了超衍射极限的成像能力。在半导体器件与纳米光学元件的制作中有着很好的应用前景，是一种低成本、高效率的加工技术。金属介质多层膜结构形式的超材料是超分辨成像重要组成材料该...
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