技术编号:14645701
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及合金、特别是含少量钯的青铜的领域,以及涉及电镀浴(galvanic bath),该电镀浴用于它们在电镀工艺中的电沉积。背景技术含钯的锡和铜的合金由于其作为纯钯沉积物的可能的低成本替代物以及作为用于必须符合非变应原特性(non-allergenic characteristic)的物体的镍的替代物的抗性(resistance)而已经是已知的。例如,专利JP 06293990描述了10-20%锡、10-80%铜和10-50%钯加上少量其它元素的合金,该合金具有与纯钯相当的颜色和强度。专利J...
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