技术编号:14806835
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及靶材结构技术领域,特别涉及一种靶材部件及平面靶。背景技术目前有一种平面型靶材部件,其特点在于整块靶材设置于底座上,靶面为平面或基本呈平面,这类靶材部件在实际使用中,存在一个问题,即利用率较低,原因在于,在使用该类靶材部件做磁控溅射镀膜时,由于磁场产生的磁力线在靶面分布不均,在磁力线集中的地方,等离子体最强,对应的靶面上由于溅射形成“V”型沟道,一旦此处靶材消耗到无法满足溅射工艺要求时,则整个靶材部件不能再使用,需要更换,从而导致靶材利用率不高的问题,靶材利用率不高将导致生产成本较高...
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