技术编号:14913287
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及氧化物薄膜晶体管及其制备相关技术领域,尤其涉及氧化物半导体薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板。背景技术随着信息时代的到来,显示器正在加速向平板化、节能化的方向发展。平板显示器(Flat Panel Display,FPD)是目前最为流行的一类显示设备。平板显示领域中应用最广泛的技术就是薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)技术。当前主流的薄膜晶体管技术的有源层材料为Si材料,包括非晶硅、多晶硅等。然而非晶硅薄膜晶体管稳定性较差且迁移率较低,而多晶硅薄膜晶体管由于晶...
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