技术编号：15300287
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。这种方法已经已知多年，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导引至压印筒。还未被硬化的漆层的一部分漆沿输送方向堵在漆层接触压印筒的位置近前，并且构成所谓的“楔形漆块”。然而这种楔形漆块在由现有技术已知的方法中是不均匀分布的，其中，不仅该楔块的厚度而且其沿压印筒的转动轴线的方向的分布都是持续和不可预见地变化的。楔形漆块的几何形状和分布因而是随机的，以此特别不利地形成漆层在薄膜幅面不均匀的分布。在微米或纳米范围内的结构因而被压印在不均匀分布的漆层中，其中，在压印和接着的借助UV辐射对漆层的硬化之后也形...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。