技术编号:15319986
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种机械装置,尤其涉及一种硅片单面处理装置。背景技术半导体器件生产中硅片须经严格清洗,微量污染也会导致器件失效,清洗的目的在于清除表面污染杂质,清除污染的方法有物理清洗和化学清洗,物理清洗主要是采用刷洗或擦洗的方法将硅片表面杂质去除,主要是通过人工手动操作,生产效率低下,而且手动刷洗或擦洗均匀性差。鉴于以上缺陷,实有必要设计一种硅片单面处理装置。实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题在于:提供一种硅片单面处理装置,来解决手动刷洗或擦洗均匀性差及生产效率低的问题。为解决上述技术问题...
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