技术编号：15333437
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具有阵列式DBD等离子激励布局的涡轮叶栅叶顶结构，属于涡轮主动控制技术领域。背景技术由于涡轮叶栅叶顶与机匣之间间隙存在的必然性，在叶片压力面和吸力面两侧压差的作用下，动叶顶部会形成从压力边到吸力边的泄漏流动。泄漏流动不仅会减少做功工质流量，减小气动负荷，还会造成较大的剪切损失以及掺混损失等。因此，一直以来对叶顶间隙泄漏流动的研究是叶轮机械领域研究重点之一。目前，对间隙流动控制的研究分为主动控制和被动控制。其中，主动控制是考虑气流、力等方式的量的注入来阻碍间隙流动，主要包括外机匣喷气、叶...
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