技术编号:15529697
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于金刚石生产加工技术领域,具体涉及一种适用于CVD金刚石制备的新型散热结构。背景技术化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition,CVD)制备金刚石是指将氢气、碳源混合气源通入到反应腔室内部,然后使用高能能量将混合气源电离为sp2石墨相含碳基团、sp3金刚石相含碳基团、原子氢等亚稳态活性基团。利用原子氢对sp2石墨相含碳基团的反应刻蚀效率远大于对sp3金刚石相含碳基团的反应刻蚀效率,达到sp3金刚石相含碳基团在样品表面的选择性吸附沉积的目的,从而实现样品表面金刚...
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