技术编号：15603871
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种铜基铌三锡薄膜及其制备方法，属于射频超导加速腔技术领域。背景技术随着射频超导技术的发展，射频超导加速器已经成为粒子加速器中的重要一员，它广泛的应用于高能物理、核物理、生物技术，材料科学以及国防等领域。射频超导加速器的核心部件是射频超导腔，一般由铌材加工制造而成。而如今，铌制成的射频超导腔已经达到它的极限性能，射频超导加速腔的制造急需一种新的超导材料来替代铌。对于射频超导体而言，射频电场的有效作用区仅为材料表面几十纳米到几百纳米，新型射频超导材料的研究主要集中于利用现有技术将超导薄膜...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。