技术编号:15698781
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种铁氧体上微带电路制作方法。背景技术基于铁氧体上微带线电路元器件如滤波器、环形器、隔离器等是射频/微波终端的一类重要元器件,在雷达前端、通信基站等领域广泛应用。长期以来,国内外铁氧体上微带电路的制作普遍采用先整体溅射金属膜层,再光刻、腐蚀的方法,或者先溅射种子层金属,再光刻,然后图形电镀,最后腐蚀的方法。这两种方法均延续了传统的陶瓷基片上薄膜电路制作技术,涉及溅射、光刻、腐蚀,甚至电镀等,工步多,所需设备多,使得铁氧体上微带元器件成本居高不下。发明内容本发明所要解决的技术问题是:提供...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。