技术编号：15735448
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法。本申请基于2017年3月31日在日本申请的特愿2017-73143号主张优先权，在此引用其内容。背景技术在半导体元件或液晶显示元件的制造中，较广泛地采用如下的技术，在基板上形成微细图案，将其作为掩膜进行蚀刻，由此对该图案的下层进行加工(图案形成技术)。微细图案通常由有机材料构成，通过光刻法或纳米压印法等技术形成。例如，在光刻法中进行下述工序：在基板等的支承体上使用包含树脂等基材成分的抗蚀剂材料形成抗蚀膜，利用光、电子射线等的放射线对该抗蚀膜进行选择性曝光...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。