技术编号:15773469
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及镀膜机技术领域,尤其涉及一种PVD真空离子镀膜机。背景技术随着科技水平的提高,电镀已经无法满足人们的需求。取而代之的真空离子镀技术越来越受到人们的欢迎,随着真空离子镀技术的不断发展,真空离子镀的市场也越来越大。那么传统真空离子镀膜机内的工件托架已经无法满足需求。传统的托架结构复杂而且悬挂的零件少,镀膜效率低。而且传统的托架只能围绕中心转轴旋转,经常出现零件镀膜厚度不均匀的现象,严重影响真空离子镀层的质量。实用新型内容本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在PVD真空镀膜机镀膜不均匀...
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