技术编号:15811131
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及电解领域,特别涉及一种电极涂层修复方法。背景技术离子膜电解槽自上世纪七十年代投产应用于氯碱工业以来,至今已有四十年,在这期间离子膜电解槽金属阳极的应用和制造技术得到了飞速的发展。然而,现有离子膜电解槽金属阳极受产品寿命和运行环境的影响,在参与运行电解后,依然会出现阳极破损、涂层活性衰退、进而导致电解槽的槽电压升高、电解能耗增加,电解效率下降,产品纯度降低等缺陷。其中,金属阳极涂层活性衰退的原因有很多,比如长期电解使金属阳极涂层中的活性组分受到电化学反应腐蚀钝化、反应过程中气体的冲刷、停...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。