技术编号:16049255
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体加工技术领域,具体涉及一种阻抗匹配装置及半导体加工设备。背景技术等离子体技术被广泛地应用于半导体器件的制造技术领域中。在等离子体沉积与刻蚀系统中,采用射频电源向反应腔室加载能量以将腔室内的工艺气体激发形成等离子体;等离子体中含有大量的电子、离子、激发态的原子、分子和自由基等活性粒子,这些活性粒子和置于腔体并曝露在等离子体环境下的基片表面发生各种物理和化学反应,使基片表面发生变化,从而完成刻蚀、沉积等工艺。在应用中,射频电源的输出阻抗一般为50Ω,为了使反应腔室从射频电源处获得最大...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。