一种单向NPN穿通型超低压TVS结构及其制备方法与流程技术资料下载

技术编号:16093342

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本发明属于一种TVS结构及其制备方法,此TVS适用于保护超低工作电压的半导体IC。背景技术随着半导体IC的集成度不断提升,半导体制造工艺最小线宽的不断降低,半导体IC能承载的最大功率变得更低,这就需要半导体IC工作电压变得比原来要低,才能有效降低半导体IC承载的功率。近些年,半导体IC的工作电压从5V降低到了3.3V,后来又从3.3V降低到了2.5V,这就需要作为过压保护的TVS击穿电压也要相应的降低,以便更好地保护半导体IC,当二极管TVS击穿电压低于5V后,齐纳击穿的隧道效应会导致击穿曲线软...
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