技术编号：16364983
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开内容的实施方式一般涉及无掩模光刻的领域。更具体地，本文提供的实施方式涉及一种用于响应于覆盖误差来调整基板的曝光参数的系统和方法。背景技术光刻被广泛地用于制造半导体器件和显示装置，诸如液晶显示器(LCD)。大面积基板常常用于制造LCD。LCD或板件通常用于有源矩阵显示器，诸如计算机、触摸面板装置、个人数字助理(personal digital assistant,PDA)、蜂窝电话、电视机监视器和类似装置。通常，板件可以包括夹在两个板之间的形成像素的液晶材料层。当在液晶材料上施加来自电源的功...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。