技术编号:16481546
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及晶片生产设备领域,具体是晶片清洗用离心清洗脱水装置。背景技术在晶片加工工厂里,腐蚀工序加工完成后,通常需要清洗,再用无水乙醇脱水,然后烘干。清洗时受到晶片叠放的影响,会造成晶片清洗不彻底,带来水印、脏污等问题,同时影响干燥,造成晶片干燥不彻底等问题。实用新型内容针对上述不足,本实用新型的目的在于,提供结构新颖、使用方便,晶片清洗干燥效果好,效率高的晶片清洗用离心清洗脱水装置。为实现上述目的,本实用新型提供以下技术方案:晶片清洗用离心清洗脱水装置,包括清洗箱,清洗箱内从上到下依次设置...
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