技术编号：16498431
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及磁控溅射技术领域，特别涉及一种用于磁控溅射室观察窗的保护机构。背景技术在磁控溅射镀膜生产过程中，阴极内加装一个磁体和靶材表面形成一个与电场正交的磁场，电子在磁场力的作用下改变其运动方向。从靶材表面上释放出来的电子以及工艺气体离化出来的电子，并不直接飞向阳极而是会沿着螺旋方向运动，这样的运动方式减少电子与气体原子(或分子)碰撞的平均自由程，增加了气体的离化程度，虽然可以在保证溅射率的前提下减少气体的使用量，从而提高了溅射效率，而且能较好地控制等离子体的范围，并使其集中并均匀地溅射靶材...
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