技术编号：16504574
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种以卷对卷(roll to roll)方式或单片方式支承可挠性基板的基板支承装置及对通过该基板支承装置所支承的基板实施曝光处理的曝光装置及图案化装置。背景技术于日本专利特开2006-098719号公报中，揭示有卷对卷方式的曝光装置(基板处理装置)。具体而言，在将从供给卷盘送来的可挠性印刷配线基板材(以下，简称为可挠性基板)以紧贴的方式沿着滚筒的外周面的状态下使滚筒旋转。然后，将来自根据图像数据被控制的具备数位微镜装置(DMD)及微透镜阵列的曝光头单元的光束，投射至通过滚筒支承的可挠...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。