技术编号：16524564
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于柔性衬底微细加工领域，具体涉及一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置。背景技术在微细加工光刻领域，衬底普遍采用平面的刚性衬底，如硅片、玻璃片或石英片。光刻工艺中的曝光工艺和设备要求衬底有较高平面度，接触接近式曝光过程要求衬底与掩膜之间的间隙足够小并且足够均匀。然而柔性薄膜衬底由于刚度低、面形由支撑状态决定，较大且不稳定的面形起伏导致其无法与接近接触式光刻工艺兼容，限制了光刻加工工艺与设备在柔性薄膜衬底上的应用。发明内容为了在柔性薄膜衬底上利用接近接触式光刻工艺实现大面积微结构制作...
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