技术编号:16543139
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体制备技术领域,特别是涉及一种基于应力补偿制备柔性单晶薄膜的方法及柔性单晶薄膜。背景技术近年来,基于柔性衬底的柔性电子学受到了全球范围的广泛关注,其在柔性显示、电子皮肤、传感器、可穿戴设备等诸多领域都有着潜在的应用前景。目前,柔性衬底和功能薄膜是构成柔性电子器件的材料基础,一般而言,单晶功能薄膜相较于多晶或非晶薄膜性能更为突出。然而,单晶薄膜的制备一直是半导体制备技术领域的难点,常规的薄膜制备方法如脉冲激光沉积法、磁控溅射法、原子层沉积法、热蒸发法等难以制备出高品质单晶薄膜;分子束...
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