技术编号：16647554
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体设备行业的安全控制领域，特别涉及一种安全控制系统及一种光刻机曝光系统。背景技术光刻机技术是利用曝光系统把掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂过光刻胶的硅片上，这需要用高能量高频率的深紫外光作为光刻机的光源。众所周知，紫外线不能引起人们的视觉，并且波长越短对人体危害越大，而光刻机中采用的光源就是短波，它可穿过皮肤层直接对人体产生危害，同时因人体眼睛是紫外线的敏感器官，紫外光会对晶状体造成不可逆的损伤。因此光刻机中曝光分系统内对于紫外光的防护尤为重要。如图1所述，图1是一种常见的曝光...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。