技术编号：17209585
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于超分辨光刻装置的技术领域，具体涉及一种基于棱台分光的超分辨光刻装置。背景技术随着IC产业的高速发展，电子产品集成电路小型化以及存储密度越来越高，迫切要求提高光刻工艺。光刻工艺的分辨率和曝光效率决定了生产集成电路芯片的分辨率和生产效率。由瑞利判据可知，光刻工艺的分辨率kλ/NA，其中k为工艺因子，λ为曝光波长，NA为数值孔径。缩短照明曝光光源波长是提高传统光刻分辨率的重要手段之一，但随着波长缩短，光刻实现成本增加，光刻效率降低。增大数值孔径也可以有效提高传统光刻的分辨率，但却造成焦深急剧...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。