技术编号：17302328
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及曝光设备领域，具体涉及一种曝光装置及曝光方法。背景技术目前，曝光机均通过一曝光平台来使曝光光源和基板对位，以利于使曝光光源精确地曝光至基板上。在曝光工艺中，由于涂胶不均或在低压腔室抽真空的速率不均匀，而造成曝光后基板的部分区域线宽会偏大或偏小，导致基板线宽的误差范围较大，从而影响产品的成品率。发明内容有鉴于此，本发明实施例提供了一种曝光装置及曝光方法，解决了在曝光过程中由于涂胶不均或在低压腔室抽真空的速率不均匀，而造成曝光后基板的部分区域线宽会偏大或偏小，导致基板线宽的误差范围较大，从...
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