技术编号:17310040
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种新型MASK修补机上下料装置。背景技术随着国家对半导体集成电路产业的大力投资和扶持,晶圆厂如雨后春笋般拔地而起;对光掩模制造是一个机遇,也是一个挑战。目前国内大多数光掩模厂的产品等级仅满足一些中低端晶圆客户需求,这些光掩模产品等级都是由制造设备来决定。FEI电子束修补机台目前只能满足0.18um工艺产品;运用本发明可以使原本机台修补产品精度等级大大提升。工艺平台X/Y/Z/θ旋转精度是0.001um。实用新型内容为了克服现有技术的不足,本实用新型提供了一种多功能鼠标。为解决上述...
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