技术编号:17320218
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种低温多晶硅显示面板制造方法,其可避免在对一非晶硅(a-Si)层实施准分子激光退火(Excimer-Laser Annealing,ELA)的工艺之前,所述非晶硅层上残留有自空气中附着的粒子或是金属离子,导致所述非晶硅层所形成的多晶硅的晶格产生缺陷而降低显示面板良率的问题。背景技术低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon,LTPS)为新一代薄膜晶体管液晶显示器((Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,T...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。