技术编号:17403107
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及四氧化三钴制备技术领域,具体为一种纳米级四氧化三钴的处理装置。背景技术现有的纳米四氧化三钴晶体颗粒研磨技术存在以下问题:研磨效率差,通常是将一定的加工料加入研磨机,在研磨过后再统一出料,这样缺乏连续性的加工方式渐渐脱离现代化工业生产的要求,而且在研磨过程中需要添加水进行冷却,研磨过后需要进行过滤和干燥的工作,耗费时间也耗费能源,生产成本难以降低。实用新型内容本实用新型的目的是克服上述现有技术的缺点,提供一种纳米级四氧化三钴的处理装置。本实用新型是通过以下技术方案来实现的:一种纳米级...
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