技术编号：17474932
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求于2017年10月12日提交韩国工业产权局、申请号为10-2017-0132079的韩国专利申请的优先权和权益，其全部内容通过引用结合在本申请中。技术领域本文中描述的本发明构思的实施例涉及基板处理装置和基板处理方法。背景技术为了制造半导体设备和液晶显示器，已经执行了诸如光刻、蚀刻、灰化、离子注入、薄膜沉积和清洁工艺等各种工艺。其中，从形成在基板上的薄膜去除不必要区域的蚀刻工艺需要相对于薄膜更高的选择比和更高的蚀刻速率。此外，在以上工艺期间，可以执行对基板执行热处理的工艺。通常，蚀刻工艺...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。