技术编号:17535575
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种通过经通气搅拌(aeration-agitation)的处理液来处理基板的基板处理技术。在处理对象的基板中包含有半导体晶圆(wafer)、液晶显示装置用玻璃基板、FED(Field Emission Display;场致发射显示器)用基板、等离子显示器面板(plasma display panel)用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板及光掩模(photomask)用基板等的各种基板。背景技术在专利文献1中已有公开一种基板处理装置,在保持蚀刻液的蚀刻槽配置扩散器(dif...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。