技术编号：17563474
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于光学玻璃研磨抛光加工领域，尤其属于研磨抛光设备中的清洁装置。背景技术光学玻璃精磨过程中，需要用到磨料，比如碳化硅或者金刚砂。由于研磨盘的上下面有很多沟槽，而磨料颗粒不可能完全被水清洗，长时间后会沉淀在研磨盘的沟槽内。如果长时间磨料颗粒无法被清除，会影响到整个研磨盘的平整度，导致玻璃加工在后续的抛光过程中无法得到优质得到面型。目前通常做法是工人每天用刮铲对研磨盘进行清理，但是对于沟槽深处却难以清理干净，并且也浪费工人的时间。因此希望能够有简单高效的方法将沉积的磨料清理干净。发明内容本...
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