技术编号：17788889
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及半导体集成电路领域，特别是涉及一种监控光刻机的涂布平台平整度的方法。背景技术随着半导体技术的进一步发展，晶圆制造过程中对光刻机的要求也越来越高。激光优异的特性,如极好的单色性、准直性和相干性以及能量分布集中并可调等，使其恰好能够满足半导体技术快速发展的需要。准分子激光是激光家族中较为特殊的一员，其远紫外波段的波长保证了较高的光刻分辨率。作为光学光刻工艺，准分子激光光刻是当前半导体制造中主流的光刻技术，该技术虽已产业化，但尚有诸多问题需要进一步探讨和研究。用于光刻的激光源主要有波长为24...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。