技术编号：17913178

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本实用新型大体上涉及半导体制造技术，且更特定来说，涉及化学气相沉积(CVD)处理及用于在处理期间固持半导体晶片的相关联设备。背景技术在发光二极管(LED)及其它高性能装置(例如激光二极管、光学检测器及场效应晶体管)的制造中，化学气相沉积(CVD)工艺通常用于使用例如氮化镓的材料在蓝宝石或硅衬底上生长薄膜堆叠结构。CVD工具包含处理腔室，其是允许注入气体在衬底(通常呈晶片形式)上反应以生长薄膜层的密封环境。此制造装备的当前生产线的实例是由纽约普莱恩维尔的维科仪器公司(Veeco Instrumen...
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