技术编号：17917120
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及结构探测显微成像技术领域，具体涉及一种优化结构探测函数的方法。背景技术光学显微术是一种历史悠久且十分重要的无破坏性技术，被广泛应用于生物和材料科学等领域。2009年，美国哈佛大学谢晓亮、JeffW.Lichtman课题组在NanoLetters杂志上发表论文，提出扫描图案探测显微技术，通过将探测调制和非解扫单元探测器完成的空间累积成像相结合来实现空间调制。仿真分析得出，在荧光非相干成像情况下，横向分辨率均可达到普通显微系统的2倍。专利号：ZL201510868029.6描述的一种超分辨...
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