技术编号:17948347
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体集成电路领域,具体属于一种氧化设备中挡片自动清洁系统。背景技术集成电路是在单个芯片上制作晶体管和互连线的加工技术发展的直接结果,随着超大规模集成电路的飞速发展,半导体器件设计也向着高密度、高集成度的方向发展,对半导体集成电路新工艺、新技术和新设备提出了越来越高的要求。集成电路的制造包含一系列复杂的化学或者物理操作,一般可以分为扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、抛光六个独立的部分。其中,扩散一般进行的是高温工艺以及薄膜沉积工艺,主要设备是高温扩散炉和湿法清洗设备,而高温扩散...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。