技术编号：18124401
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体生产领域，更具体地，涉及一种基片承载装置。背景技术半导体制造领域中通常需要对基片(又称为衬底)进行各种处理。例如，太阳能电池生产工艺中通常包括基片的刻蚀工艺环节。当刻蚀工艺结束后，需要使用去离子水或其它溶剂将刻蚀溶液最大程度的清洗干净。具体地，承载有基片的载板安装在基片承载装置(例如基片承载花篮)中，机械手提起基片承载装置并将其置于水槽中。经过数分钟的浸泡后将废水排走，重复几次浸泡、排废水即完成清洗过程。现有的清洗为浸泡清洗，载板与载板之间的缝隙很难清洗完全，残存在载板之间的...
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