技术编号：1849899
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种溅射ZnO基薄膜用的AZO靶材的制备方法，特别是涉及一种用凝胶注模成型制备AZO靶材的方法。背景技术磁控溅射制备ZnO基薄膜是所有制备薄膜方法中研究得最多、最成熟，而且应用最广泛的方法。磁控溅射技术成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，易控制、成本低，可实现大面积镀膜。工业生产中的磁控溅射技术，工艺成熟、技术应用广泛。AZO靶材的选择与制作对磁控溅射产品的质量起到十分重要的作用，AZO靶材既可以使用Si与Al合金，也可以使用ai0/Al203...
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