技术编号：18542806
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及掩模板技术领域，特别是涉及一种掩模板清洗系统及清洗方法。背景技术在制作显示面板过程中，一般需要在特定位置上利用掩模板蒸镀特定材料。掩模板在使用一段时间后，其表面会残留有被蒸镀的特定材料，此时需要对掩模板进行清洗，以使得掩模板可以重复使用。现有的掩模板清洗系统包括级联的以下腔室：(1)有机清洗槽，可以采用N-甲基吡咯烷酮NMP对掩模板上的有机物进行化学清洗；(2)水洗槽，可以采用去离子水对掩模板上残留的NMP溶液进行清洗；(3)脱水室，可以采用异丙醇IPA对掩模板进行脱水处理；(4)干燥...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。