技术编号:1855306
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种二氧化硅蒸发材料的切割方法,特别涉及一种。背景技术蒸发镀膜材料是制备各种光学薄膜的起始材料,二氧化硅是最重要和最常用的起始蒸镀材料之一。将小颗粒二氧化硅材料置于真空室的蒸发坩埚中,用电子束蒸发技术形成二氧化硅单层薄膜或膜堆、膜系,组成各种功能的光学滤光膜。如专利ZL200710025480.7所述,通常使用的二氧化硅蒸镀材料起始颗粒有两种形式形状尺寸不规则颗粒和外形尺寸均匀一致的颗粒。但这两种颗粒传统制备方法都采用粘胶法,其通常的制备方法包括...
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