技术编号：18942715
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学气相沉积技术领域，尤其涉及一种反应腔及化学气相沉积装置。背景技术化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或者光辐射等各种能源，在反应器内使气态或者蒸汽状态的化学物质气固界面上经过化学反应形成固体沉积物的技术。反应腔是化学气相沉积设备(CVD)的核心，决定了整个设备的性能。现有技术中，CVD设备的进气方式是在腔体的顶部或底部设置进气口，样品则放置在于腔体的内部，气体通过进气口垂直射在样品上，一方面由于进气口大小的限制...
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