技术编号:19055905
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及粒子线照射装置及粒子线治疗系统。尤其涉及向靶点照射带电粒子束的粒子线照射装置及粒子线治疗系统。背景技术作为能够抑制大型化并且能够确保充分的照射野的带电粒子束照射装置的一例,专利文献1记载了具备第一扫描电磁铁部和第二扫描电磁铁部,而且第一及第二扫描电磁铁部相对于第一方向并列配置的装置,其中,第一扫描电磁铁部使带电粒子束向与供带电粒子束入射的第一方向实质上正交的第二方向偏转,第二扫描电磁铁部使带电粒子束向与第一方向及第二方向实质上正交的第三方向偏转。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。