技术编号：19349922
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及泵监视装置、真空处理装置以及真空泵。背景技术在制造半导体、液晶面板时的干式蚀刻或cvd等工序中，由于在高真空的处理腔内进行处理，因此作为对处理腔内的气体进行排气来维持高真空的手段，例如能够使用涡轮分子泵这样的真空泵。在对干式蚀刻或cvd等处理腔内的气体进行排气的情况下，随着气体的排出，反应生成物会堆积在泵内。关于这样的反应生成物的堆积，专利文献1中公开了一种对堆积在泵内的生成物进行检测的方法。在专利文献1公开的堆积物检测方法中，对驱动泵的旋转体旋转的电机的电流值进行测量，并在测量值相对...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。