技术编号:1941338
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明为以回转窑烧结陶粒、陶砂技术,特别是涉及以还原气氛烧制陶砂、陶粒工艺方法及窑炉(简称还原法陶砂、陶粒)。背景技术现有技术的陶粒、陶砂是以单节或双节回转窑在氧化气氛下烧制。由于在氧化气氛下烧制,使其形成较厚的砖红色氧化外壳,因此使得产品 密度大,吸水率较高。一般5mm以上颗粒较易被烧制,而5mm以下颗粒烧成后 由于氧化外壳占据大部分体积,密度增大,2mm以下颗粒多数成了实心烧结体颗粒,因基本不膨胀密度在800kg/m3以上。现有的页岩陶粒厂都是以烧制陶...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。