技术编号：19431302
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开内容一般涉及使用喷墨打印机的蚀刻方法。背景技术有机导电膜例如聚(3,4-乙撑二氧噻吩)(“pedot”)(有机导体)可通过用蚀刻剂例如次氯酸钠溶液处理而致使非导电。用于使有机导电膜图案化的已知过程包括在导电膜上形成掩模，随后将掩蔽的导电膜浸渍在蚀刻剂浴中，其中有机导体的暴露区域转换为非导电区域，从而形成由非导电区域分开的导电区域的所需图案。采用喷墨打印技术用于选择性沉积掩模层也是本领域众所周知的。例如，通过喷墨打印技术沉积的油墨的选择性沉积已用于形成蚀刻掩模。然而，蚀刻掩模的使用一般涉及掩...
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